PTI4100-TDL激光气体分析仪

PT14100-TDL是一款原位对穿式安装的高性能气体分析仪,广泛应用于火力发电、石油化工、钢铁冶金、工业气体等行业的安全或危险区的排故物检测和过程控制。该仪器内置波长调制光谱(WMS)信号处理装置(或该仪器内置波长调制光谱(WMS)信号处理技术),减少了其他气体的干扰,检测结果的稳定性高,重复性好。本分析仪使用可调节激光二极管吸收光谱法(TDLAS),即DFB激光源的非接触式光学测量方法,具有传感器不受污染物腐蚀物的影响的优点,不需要定期维护。
  • 详细介绍
▣系统概述

PTI 4100-TDL是一款原位对射安装的高精度气体分析仪,广泛应用于火力发电、石油化工、钢铁冶金、工业气体等行业的危险区域的排放物检测和过程控制。该仪器内置波长调制光谱(WMS)信号处理装置,减少了水分等气体的干扰。本分析仪采用可调节激光二极管吸收光谱法(TDLAS),即DFB激光器发出的非连续性单线光谱,传感器不与被测气体接触,无需取样预处理系统,进一步提高了测量的实时性,并消除了样品预处理过程中引入的偏差。仪器结构设计精巧,安装简单,仪器直接安装在过程法兰上,法兰自准直的调整设计可防止灰尘和污染物沉积在光学窗口上;法兰自准直的调节机构,方便仪表安装光路对准调节,有效解决了激光分析仪在恶劣工况下的难题。

◉分析原理

PTI 4100-TDL型激光气体分析仪是基于国际领先的半导体激光吸收光谱技术(TDLAS),即"激光光谱"测量技术。系统采用可调制的半导体激光器为光源,通过调制半导体激光器的工作电流强度来调制激光波长,通过扫描激光波长于检测气体的单一吸收线,从而使半导体激光器发射出特定波长的激光束在穿过被测气体时,被被测气体的该吸收线吸收,从而获得被测气体的浓度。由于光源的单色性极好,光谱数据较的吸收光谱仪吸收光谱次数之积的Beer-Lambert定律,通过检测吸收谱线的吸收大小(即光强度衰减)就可以得到被测气体的浓度。

⚙仪器组成

分析仪器主要由发射单元和接收单元构成。发射单元主要由实现驱动半导体激光器发射激光,发射出的激光束穿过被测环境,由接收单元进行光电转换、信号处理,对光谱数据进行分析。现场安装测量模式,可以在各种复杂工况下在线分析包括O₂、CO、NH₃、CO₂、CH₄、H₂O、HCl/HF等在内的多种气体。提供本质安全型防爆结构,分析仪器外壳可选隔爆设计,它采用EX 4100外壳防护等级EX db op is II CT6 Gb。除了一般高精度复杂条件下工作,还可用于含有HCl/Cl₂级及其以上的腐蚀性气体及其混合物的1区、2区危险环境中。

◆性能特点
✓ 响应时间低于1秒;
✓ 非接触式测量;
✓ 可选原位测量而无需气体采样;
✓ 无高温气体取样;
✓ WMS调制调谐气体抗干扰;
✓ 适用于多种工艺条件:高温、低温、高尘;
✓ 采用成熟的可调谐二级管激光(TDL)光谱测量技术;
✓ 抗腐蚀性气体极端应用;
✓ 标定简便、无零点漂移、维护成本低;
✓ 在线测量,整个测量路径上的积分浓度;
✓ 低检测限;
✓ 长路径长度;
✓ 提供集成防尘检查选项;
✓ 适用于恶劣环境。
✦关键特征

原位长路径

对于非接触原位应用,PTI 4100-TDL激光气体分析仪可直接对射安装,光路路径长为7.62cm。

无需调整维护

可调谐二极管激光(TDL)仪器是一个非接触式的激光光谱仪,非接触特点带来的优势是,传感器不受视野和降解性物质的影响,可以测量不干净的样品。

不受背景气体干扰

使用波长调制光谱(WMS)保证被测气体干扰的第二次谐波频率噪声源可以忽略,使分析仪能够在最恶劣的气体环境中运行。并且有惟一的一次谐波能够用于气体的测量浓度,这个中心频率位于气体吸收峰的中心处,值能比较和设定,这一特殊技术使其气体浓度灵敏度、稳定性更优异。

无零点漂移

激光频率不受稳定性影响,远近基于半导体气体吸收谱线的特点,频率可观察第二次谐波不影响测量,可现场监测空气中这种自然条件低浓度的目标气体,可实现更高的测试精度,而无需频繁标定。

稳定的解决方案

PTI 4100-TDL激光溶气体选择Swagelok技术,通过调整器距器测气体吸收器距离和响应和信号,可调节分析仪器的化学浓度。这种检测器可以在被监测的气体中存在干扰气体的情况下进行测量,也可能降低样气将被处理,获得更精确的检测结果。在许多应用中标气需要节省成本。

▤主要监测参数
最小量程 检测限 被测气体 最大样气压力 最高样气温度/℃
NH₃ 0.11mg/m3(0.15ppm) 0-15ppm 2 bar abs. 600
HCl 0.08mg/m3(0.05ppm) 0-5ppm 2 bar abs. 600
HF 0.013mg/m3(0.015ppm) 0-1.5ppm 2 bar abs. 400
H₂S 4.5mg/m3(3ppm) 0-300ppm 2 bar abs. 300
O₂ 0.01% 0-1% 20 bar abs. 1500
H₂O(ppm) 0.08mg/m3(0.1ppm) 0-10ppm 2 bar abs. 400
H₂O(%) 40mg/m3(50ppm) 0-5000ppm 2 bar abs. 1500
CO(%) 38mg/m3(30ppm) 0-3000ppm 2 bar abs. 1500
CO₂(%) 59mg/m3(30ppm) 0-3000ppm 2 bar abs. 1200
CO(ppm) 0.4mg/m3(0.3ppm) 0-30ppm 2 bar abs. 1500
CO₂(ppm) 0.4mg/m3(0.2ppm) 0-20ppm 2 bar abs. 300
HCN 0.36mg/m3(0.3ppm) 0-30ppm 2 bar abs. 300
CH₄ 0.14mg/m3(0.2ppm) 0-20ppm 3 bar abs. 300
C₂H₂ 0.12mg/m3(0.1ppm) 0-10ppm 2 bar abs. 200
C₃H₆ 0.01% 0-1% 3 bar abs. 200
CH₃I 9mg/m3(3ppm) 0-300ppm 2 bar abs. 200
NH₃+H₂O 0.15mg/m3(0.2ppm NH3)/0.05% H2O* 0-20ppm/0-5% 1.5 bar abs. 500
HCl+H₂O 0.16mg/m3(0.1ppm HCl)/0.1% H2O* 0-10ppm/0-5% 1.5 bar abs. 400
HF+H₂O 0.018mg/m3(0.02ppm HF)/0.01% H2O* 0-2ppm/0-1% 1.5 bar abs. 400
CO+CO₂ 0.01%(两者) 0-1%/0-1% 1.5 bar abs. 300
O₂+Temp 0.05%/10℃ 0-5% 1.5 bar abs. 1500

注意:*在180℃下指定为H₂O

 

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